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Quantum dot-doped porous silicon metal–semiconductor metal photodetector

机译:量子点掺杂多孔硅金属-半导体金属光电探测器

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摘要

In this paper, we report on the enhancement of spectral photoresponsivity of porous silicon metal–semiconductor metal (PS-MSM) photodetector embedded with colloidal quantum dots (QDs) inside the pore layer. The detection efficiency of QDs/PS hybrid-MSM photodetector was enhanced by five times larger than that of the undoped PS-MSM photodetector. The bandgap alignment between PS (approximately 1.77 eV) and QDs (approximately 1.91 eV) facilitates the photoinduced electron transfer from QDs to PS whereby enhancing the photoresponsivity. We also showed that the photoresponsitivity of QD/PS hybrid-MSM photodetector depends on the number of layer coatings of QDs and the pore sizes of PS.
机译:在本文中,我们报告了在孔隙层内部嵌有胶体量子点(QD)的多孔硅金属-半导体金属(PS-MSM)光电探测器的光谱光响应性的增强。 QDs / PS混合MSM光电探测器的检测效率比未掺杂的PS-MSM光电探测器提高了五倍。 PS(约1.77 eV)和QD(约1.91 eV)之间的带隙对准促进了光诱导电子从QD到PS的转移,从而增强了光响应性。我们还表明,QD / PS混合-MSM光电探测器的光响应性取决于QDs的涂层数量和PS的孔径。

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