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胡明山; 王涛; 奚野; 刘景全;
上海交通大学微纳电子学系微米/纳米加工技术国家级重点实验室 上海200240;
大气压等离子体射流; 单环电极; 双环电极; 聚合物薄膜刻蚀; 表面形貌;
机译:Si [1 0 0]晶片的超低频等离子体刻蚀工艺研究
机译:N_2O和O_2电感耦合等离子体刻蚀的酚醛基聚合物薄膜化学变化动力学:比较研究
机译:用大气压等离子体刻蚀工艺用狭缝掩模对SiC晶片进行切块
机译:用于在微电子节点中形成层间连接的聚酰亚胺材料的深等离子体刻蚀工艺研究
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:固溶钙钛矿太阳能电池固溶TiO2电子传输层的低温退火工艺研究
机译:使用RF驱动的大气压等离子体射流在氮气氛中使用RF驱动的大气压等离子体射流低温沉积Cu薄膜
机译:低温应用焊接工艺研究。
机译:在大气压力下进行等离子体刻蚀的系统,用于执行材料表面的等离子体刻蚀
机译:大气压力等离子体刻蚀装置及制造SOI基质的方法
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