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王均安; 于德洋;
不详;
二硫化钼; 溅射膜; 氧化; 耐磨寿命;
机译:Ti膜厚度和氧化温度对溅射Ti膜热氧化形成TiO_2薄膜的影响
机译:溅射到SUS 440 C辊上的MoS {sub} 2薄膜的磨损寿命:薄膜密度与空气中储存时间对磨损寿命的影响之间的关系
机译:氧化锌膜的沉积位置对低温磁控溅射制备氧化锌薄膜晶体管特性的影响
机译:通过Al 2 INF> O 3 INF>钝化膜通过气相硫化溅射MOS2薄膜的霍尔效应移动增强溅射MOS2膜
机译:溅射沉积的三氧化二铝-二氧化钛纳米层合膜的结构及其对膜行为的影响。
机译:溅射沉积的MoS2薄膜的生长结构和稳定性
机译:RF偏置溅射和耐磨性溅射硅基薄膜和硅衬底之间的界面结构的改变及其耐磨性
机译:还原氧化石墨烯对溅射moO3和mo前驱体膜(后印刷)硫化生长的mos2的影响。
机译:氧化物半导体膜,薄膜晶体管,氧化物烧结体用于溅射靶,溅射靶和电子设备
机译:溅射包含分散在CO或CO合金相中的氧化物相,包含CO或CO合金相和氧化物相的磁性材料膜以及使用磁性材料薄膜制造的磁性记录介质的溅射靶
机译:高密度氧化锌溅射靶的溅射法制造氧化锌薄膜和高透光率的透明导电膜
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