WILEY化学气相沉积（CVD）聚合物有机物表面改性和有机电子器件的制备

摘要

化学气相沉积（CVD，ChemicalVaporDeposition）是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。CVD法是传统制备薄膜的技术，其原理是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解，