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用空间分布的ECR PECVD在低温下沉积氮化硅薄膜

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来源
《等离子体应用技术快报》 |1996年第11期|6-7|共2页
作者
李川;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类薄膜技术;
关键词
氮化硅; 薄膜; PECVD;

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