用于32nm的钨CVD加工

摘要

Novellus公司称，他们开发了一种新的Cool Fill（冷注入）W的CVD加工，对实现无孔洞注入（满足国际半导体技术指南中32nm DMAM和逻辑器件的电学性质要求）提供了较大的加工余地。尤其是低温CVD（〈395℃）直接解决了ITRS（国际半导体技术指南）所规定的高-宽比（AR）问题：