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石松;
无;
亚微米存储器; USG膜; PSG膜; 化学汽相沉积;
机译:降低BPSG SACVD工艺中硼浓度范围的新BPSG工艺的开发
机译:用于电致变色器件应用的MoO3和MoO3-WO3薄膜生长的低温常压CVD工艺
机译:亚常压化学气相沉积(SACVD)O3-TEOS UG,BPSG,PSG和等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)PSG薄膜作为微流体分配装置中的牺牲层
机译:在先进材料先驱体生产中形成硅碳键的途径的应用:第一部分:作为碳化硅单源CVD前驱体的环状和线性碳硅烷的研究。第二部分:新型氟和氰基取代的聚(亚甲撑亚甲基)的合成与表征。
机译:用于亚3nm工艺的新型自收缩掩模
机译:开发用于高质量透明导电氧化物的常压CVD工艺
机译:用于非制冷红外探测器应用的新型低温工艺生长的钙钛矿薄膜的表征
机译:用于图案加载的低温SACVD工艺
机译:低温LPCVD PSG / BPSG工艺
机译:在低温流中形成BPSG的等离子CVD工艺
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