聚焦离子束无掩模刻蚀研究

摘要

利用镓源二级透镜聚焦离子束装置在半导体基片上进行了一系列的无掩模刻蚀实验研究，在不同材料上刻蚀了各种图形，总结分析了不同参数的聚焦主子束对刻蚀的影响。