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李源; 幸研; 仇晓黎;
东南大学机械工程学院;
聚焦离子束刻蚀; 连续元胞自动机; 再沉积效应; 工艺模型;
机译:采用液面自组织的方法在洁净的玻璃片表面铺设单层六方密排的聚苯乙烯胶体球阵列,通过改变等离子 刻蚀的时间实现对胶体小球的直径控制,结合离子溅射Au膜和磁控溅射MoO2膜,最终构筑成为一种新颖的MoO2/Au微纳阵列结构,利用扫描电镜对所合成材料进行形貌表征;同时重点利用接触角测量仪对 微纳阵列薄膜的浸润性进行研究,分析水在微纳阵列表面所形成的接触角的角度变化,结果显示沉积 MoO2/Au微纳阵列比相应的Au微纳阵列更加亲水,有利于材料在水溶液中进行电化学反应。
机译:垂直型微场发射器的自对准形成,通过聚焦离子束溅射刻蚀和沉积,火山形栅电极向阴极突出
机译:聚焦离子束直接刻蚀对聚乳酸的微/纳米加工
机译:硅用于加速度计的微加工和聚焦离子束刻蚀
机译:聚焦离子束微加工在氮化镓上的光子应用。
机译:修改后的指导程序中的空间分离效应离子束溅射工艺
机译:低能聚焦离子束对GaAs干法刻蚀工艺及辐照损伤的研究
机译:聚焦离子束211溅射实现金属和聚合物的微米级加工
机译:复合聚焦离子束装置,使用该聚焦离子束装置的工艺观察方法及加工方法
机译:用于在真空下进行离子束刻蚀期间溅射材料的收集装置,包括布置在要刻蚀的基板两侧的离子束源,以及将离子源产生的束反射向基板的表面积
机译:聚焦离子束加工方法及聚焦离子束加工装置
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