机译:用于在真空下进行离子束刻蚀期间溅射材料的收集装置,包括布置在要刻蚀的基板两侧的离子束源,以及将离子源产生的束反射向基板的表面积
公开/公告号DE102012210003A1
专利类型
公开/公告日2013-12-19
原文格式PDF
申请/专利权人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;
申请/专利号DE201210210003
申请日2012-06-14
分类号C23C14/02;C23F4/00;C23C16/02;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 15:37:44