聚酰亚胺在氧基工作气体中的反应离子深度刻蚀研究

摘要

主要研究了不同的反应离子刻蚀条件(氧基工作气体、刻蚀功率、工作气压等)下所获得的不同刻蚀效果.当以O2/CHF3作为工作气体时,在一定的工艺条件下实现了高深宽比(深度23μm,深宽比＞7)、侧壁陡直光滑、底面平整光滑的刻蚀效果;同时还观察到随着CHF3浓度的增加,侧壁形状经历了外倾、垂直、内倾的变化规律.利用CF2钝化膜保护模型可很好解释这一现象.