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反应离子刻蚀

反应离子刻蚀的相关文献在1989年到2022年内共计282篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、机械、仪表工业、物理学 等领域,其中期刊论文174篇、会议论文34篇、专利文献381414篇;相关期刊78种,包括微细加工技术、电子工业专用设备、红外与激光工程等; 相关会议29种,包括第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会(CPVC12)、第十七届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议、第十一届中国光伏大会暨展览会等;反应离子刻蚀的相关文献由759位作者贡献,包括丁桂甫、刘正堂、易新建等。

反应离子刻蚀—发文量

期刊论文>

论文:174 占比:0.05%

会议论文>

论文:34 占比:0.01%

专利文献>

论文:381414 占比:99.95%

总计:381622篇

反应离子刻蚀—发文趋势图

反应离子刻蚀

-研究学者

  • 丁桂甫
  • 刘正堂
  • 易新建
  • 杨春生
  • 丁瑞军
  • 何力
  • 刘景全
  • 叶振华
  • 吴万俊
  • 尹志尧
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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