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郝慧娟; 张玉林; 卢文娟; 宋会英;
山东大学,控制学院,电子束研究所,济南,250061;
图形发生器; 电子束光刻; 三维加工; 邻近效应校正;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:通过电子束光刻技术对50 nm的波带片进行纳米加工,并对X射线成像进行局部邻近效应校正
机译:厚阻膜电子束光刻邻近效应校正技术制备Si光子波导
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:对Shepherd等人大鼠海马切片中CA3→CA1轴突的三维结构和组成的校正:对突触前连通性和分隔的影响
机译:邻近效应测量和校正的电气测试结构
机译:综合邻近效应校正方案的研制。
机译:光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
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