图形发生器
图形发生器的相关文献在1985年到2022年内共计119篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、自动化技术、计算机技术、机械、仪表工业
等领域,其中期刊论文69篇、会议论文10篇、专利文献2918807篇;相关期刊42种,包括商场现代化、电工电能新技术、中国无线电电子学文摘等;
相关会议8种,包括第十六届全国混合集成电路学术会议、2006全国光电子与光电信息技术学术研讨会、第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会等;图形发生器的相关文献由161位作者贡献,包括方光荣、薛虹、顾文琪等。
图形发生器—发文量
专利文献>
论文:2918807篇
占比:100.00%
总计:2918886篇
图形发生器
-研究学者
- 方光荣
- 薛虹
- 顾文琪
- 商涛
- 张玉林
- 张鹏
- 彭骞
- 托布约姆·桑德斯特罗姆
- 李昂
- 沈亚非
- 陈凯
- 刘俊标
- 张福安
- 陆敏婷
- 靳鹏云
- 严运思
- 刘伟
- 刘天增
- 刘荣华
- 帅敏
- 张东
- 张今朝
- 林滢
- 殷伯华
- 王振华
- 郝慧娟
- 陈少磊
- 雷新军
- 黄迪辉
- 不公告发明人
- 佟川
- 具婵根
- 卢文娟
- 吕志超
- 周明星
- 孙承永
- 尹珍烈
- 屈胜利
- 曹峰
- 朱欣志
- 朴基浚
- 杜磊
- 林家明
- 欧昌东
- 沙定国
- 潘奕捷
- 王剑
- 肖治祥
- 郭凡
- 郭周植
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段洁;
段雨晗;
孙向阳;
付跃刚
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摘要:
为实现全景航空相机对地面目标的检测要求,根据其工作原理设计出一套可完成高精度、多参数航空相机的室内检测系统。首先在分析其性能指标和工作原理的基础上,给出了该检测系统的总体方案。详细设计了系统的主要组成部分:远目标模拟系统即大视场平行光管,动态图形发生系统等结构。提出平行光管和动态图形发生器核心参数的测试方法后,对所设计的检测系统进行实际测试,结果显示其整体性能满足所提设计要求。%In order to realize detection requirements of panoramic aerial camera for ground target, according to its principle of work to design a set of indoor detection system with a performance of high precision, multi parameter for aerial camera. The overall scheme of system was given after the analysis of the performance and the work principle. The detailed design of the main components of the system, including far target simulation system- large field view parallel light pipe and dynamic graphic generation system structure is produced. Proposing the test method to core parameters of parallel light pipe and dynamic graphics generator, we made a actual test on this detection system, the result shows its performance meet the design requirements.
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黄迪辉;
黄征宇
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摘要:
提出一种由曝光单元拼接斜矩形线条的数学模型,基于该模型编制了一款数据处理程序.利用该数据处理程序和特制的光栏版,使精缩机实现图形发生器的功能,精确拼接出无锯齿状边缘的斜线条图形,为制作特殊的掩模版提供了一种实用的方法.
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殷伯华;
方光荣;
刘俊标;
靳鹏云;
薛虹;
吕士龙
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摘要:
为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microscopy,SEM)的桌面级小型电子束曝光系统,建立了以浮点DSP为控制核心的高速图形发生器硬件系统,利用线性计算方法实现了电子束曝光场的增益、旋转和位移的校正算法,在本曝光系统中应用了新型压电陶瓷电机驱动的精密位移台来实现纳米级定位,利用此位移台所具有的纳米定位能力,采用标记追逐法实现了电子束曝光场尺寸和形状的校准,电子束曝光实验结果表明,场拼接及套刻精度误差小于100nm.为了测试曝光分辨率,在PMMA抗蚀剂上完成了宽度为30 nm的密集线条曝光实验.利用此系统,在负胶SU8和双层PMMA胶表面进行了曝光实验;并通过电子束拼接和套刻工艺实现了氮化物相变存储器微电极的电子束曝光工艺.%To satisfy the requirement of fabricating semiconductor devices or microano structure, and to avoid expensive cost of industrial electron beam lithography(EBL) machine, a desktop EBL system was developed based on a normal scanning electron microscopy (SEM) and fabrication techniques. The high speed pattern generator hardware system was set up with a floating-point digital signal processor( DSP) as the core controller. The EBL field calibration coefficients including gain, rotation and shift were calculat ed by linearity method. In order to achieve nanometer positioning accuracy, a novel precision stage driven by piezoelectric motors was used. Depending on the stage's nanometer positioning ability, mark chasing method was used for calibrating the EBL field size and shape. The lithography results show that stitching and overlay error is less than 100 nm. For testing the lithography resolution, parallel lines less than 30 nm in width were etched on resistant PMMA. Following a lithography test on SU8 and PMMA bi layer resists, the EBL process of nitride phase-change electrode was accomplished by EBL stitching and overlay methods.
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郭凡;
赵峰;
陈少磊;
周坚锋
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摘要:
介绍了一种采用FPGA芯片构建硬件加速器的图形发生器的设计.在24位色模式下该图形发生器可支持最高分辨率为SXGA(1280×1024),实际应用和试验表明,在XGA(1024×768)分辨率和24位色模式下可完成场景复杂度1.5以内的二维图形实时生成,并能满足高可靠性和苛刻环境使用要求.
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夏春玲;
周小军;
汪红潮
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摘要:
以湖北广电总台经济频道的新闻资讯直播节目应用虚拟演播室技术为例,介绍了虚拟演播室系统的构成和工作原理,并结合几年来虚拟演播室技术的发展与应用,对虚拟演播室技术在新闻资讯直播节目中的应用优势进行了分析.
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方光荣;
顾文琪;
张今朝;
殷伯华
- 《第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会》
| 2005年
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摘要:
我们成功研制了一台纳米通用图形发生器,该图形发生器可以与扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)和聚焦离子束系统(FIB)连接,组成纳米曝光系统或加工系统,用于纳米器件研究、纳米结构制造.该图形发生器主要功能是:将计算机送来的曝光图形数据进行处理,分解成单元图形坐标值,再经过高精度、高速度数模转换器(D/A)变换成相对应的模拟量,驱动偏转放大器,对工件进行曝光或加工.图形发生器同时接通束闸单元,控制电子束或离子束的通与断,以及控制工件台的移动,以实现大面积图形的拚接和多层图形的套刻.该图形发生器已投入小批量生产,并在用户稳定运行.它与日本电子JSM-6360扫描电子显微镜连接,已获得21nm的曝光图形和纳米级的拚接精度和套刻精度.
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吴艳平;
张玉林;
郝慧娟;
吕风杰
- 《第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会》
| 2003年
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摘要:
可编程DSP芯片是一种具有特殊结构的微处理器,为了达到快速进行数字信号处理的目的,DSP芯片一般采用哈佛结构、流水线操作功能、单周期完成乘法的硬件乘法器、以及一套适合数字信号处理的指令集.由于DSP具有这样的特点,因此适合作为电子束曝光机图形发生器控制器.本文介绍了基于TMS320VC33DSP芯片的图形发生器控制器的研究.
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商涛;
薛虹
- 《第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会》
| 2003年
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摘要:
本文在Bresenham算法的基础上,提出了一种圆生成算法及填充策略.该方法通过设置决策函数和迭代增量,判断最接近圆函数曲线的象素点,从而得到和圆函数图形逼近较好的曲线图形.这种算法应用于以DSP芯片为基础的电子束曝光机图形发生器,可以快速且较好地得出圆图形单元的各象素点,输出信号至D/A通过信号转换控制偏转放大器绘制图形.此算法适于硬件完成,简化了数据处理过程并提高了图形绘制速度和图形精度.
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张鹏;
方光荣
- 《第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会》
| 2003年
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摘要:
本文介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案,该方案具有标记检测和曝光扫描两项基本功能,同时增加了圆形和圆环图形的处理功能.通过将现有图形发生器的功能移植至数字信号处理器,使各种图形硬件化,提高了图形的运算和处理速度,克服了以前图形发生器存在的许多弊端.文中对核心模块的设计进行了详尽的介绍.
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马子腾
- 《第十六届全国混合集成电路学术会议》
| 2009年
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摘要:
无论是在半导体还是在微电子行业,掩膜版的制作都被视为一项非常重要的环节.随着科技及制造业的发展,掩膜版的制作技术也由一开始的手工刻红膜照相制版发展到现在的图形发生器直接绘图制版.不仅仅是效率,更重要的是在精度上得到质的飞跃和提高,为半导体和微电子行业的发展提供了坚实的基础和保证.本文回顾了制版技术的发展,并且结合中国大部分企业的现状,提出了一种独特的制版方法.
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- 中国人民解放军白求恩国际和平医院
- 公开公告日期:1999-06-23
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摘要:
本实用新型涉及一种适用多种类型的显示器图形发生器,它主要由三基色信号电路、阻抗转换电路、衰减电路、彩色编码电路、视放电路和视频转换电路组成,三基色信号电路输出的R、G、B、S信号,一种经阻抗转换电路直接输出适应RGB显示图形测试信号,另一路经彩色编码电路将R、G、B、S分离信号复合成视频信号后,一路直接输出适用各种视频显示器的测试信号,另一路经TV/VGA电路输出对各种VGA显示器的测试信号。该装置可输出适用各类型显示器的测试图形,结构紧凑,成本低,是维修人员一种理想的维修工具。