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顾宁; 于向东;
东南大学分子与生物分子电子学实验室;
无锡华晶电子集团公司掩模工厂;
超薄抗蚀层; 光刻; LB膜; IC; 半导体器件;
机译:EB / UV混合光刻在正抗蚀层中形成负图案。
机译:超临界二氧化碳处理技术在光刻中的应用及其对小抗蚀图案附着力的影响
机译:通过深紫外光刻的子层变异来图像和抗蚀样调
机译:轨道蚀刻玻璃膜在亚微米制造,光刻和纠错中的应用。
机译:独立的光抗蚀膜生物和mEms应用的表征
机译:AZ 5214e抗蚀于EBDW光刻及其作为在N2等离子体中蚀刻薄AG层的RIE蚀刻掩模的用途
机译:薄聚合物抗蚀膜中结构的表征
机译:能够提供具有出色防水性的抗蚀层的聚合物化合物,以及包含其的浸没光刻工艺的抗蚀膜成分
机译:形成抗蚀底层膜的阻挡层性能的组合物以及评价抗蚀底层膜的阻挡层性能的方法
机译:液浸光刻技术中形成抗蚀膜的材料和使用该抗蚀膜形成抗蚀剂的方法
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