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夏冬林; 杨晟; 王树林; 赵修建;
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;
武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;
直流磁控反应溅射法; ITO; 薄膜; 光电性能;
机译:直流反应磁控溅射在ITO导电玻璃上制备的纳米结构VO_x薄膜的大相变滞后
机译:脉冲直流磁控溅射法制备的有机发光二极管阳极材料氧化铟锡(ITO)薄膜的电学和表面性能
机译:连续和不连续沉积对直流磁控溅射制备ITO薄膜性能的影响
机译:直流磁控溅射法制备的微传感器用微型加热器用直流磁控溅射铂薄膜的电学和热学性能
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:直流反应磁控溅射制备氧化锆薄膜的性能研究
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:RF叠加直流磁控溅射沉积超薄ITO:Ce膜,膜的制备方法和包括其的触摸屏
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