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CMP抛光液的正交优化及表面质量影响分析

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摘要

通过对一种不锈钢CMP抛光中,抛光液成分:有机碱,氧化剂,活性剂和螯合剂等添加剂对抛光后工件表面质量影响的正交试验研究,配置并优化了抛光液的成分.同时通过试验研究,探索了影响工件表面质量的因素,并提出了相应的改进措施,对后续的研究具有一定的借鉴作用.

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来源
《制造技术与机床》 |2013年第11期|109-112|共4页
作者
鱼胜利; 朱建平;
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作者单位

中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳620019;

中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳620019;

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正文语种 chi
中图分类 ATH161.1;
关键词
化学机械抛光; 正交试验; 极差分析;

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