HWE生长大面积CdTe/CdZnTe/Si薄膜的结构和形貌分析

杨爱明; 吴长树; 杨宇; 唐利斌

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HWE生长大面积CdTe/CdZnTe/Si薄膜的结构和形貌分析

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用热壁外延法(HWE)生长直径30mm的CdTe/CdZnTe/Si薄膜,经XRD测试说明它是晶面为(111)取向的立方闪锌矿结构.SEM对Si衬底、CdZnTe缓冲层和CdTe薄膜三层分别测试,结果发现:Si衬底表面结构粗糙,CdZnTe缓冲层较Si衬底表面结构细致,CdTe薄膜较CdZnTe缓冲层表面结构光滑细密,即缺陷较CdZnTe缓冲层少很多.通过对该片子照像看出其表面如镜面.由此说明大面积CdTe/CdZnTe/Si薄膜可用HWE技术制备.

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来源
《激光与红外》|2004年第6期|457-459|共3页
作者
杨爱明; 吴长树; 杨宇; 唐利斌;
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作者单位

云南大学化学与材料工程学院,云南,昆明,650091;

昆明物理所,云南,昆明,650223;

云南大学化学与材料工程学院,云南,昆明,650091;

昆明物理所,云南,昆明,650223;

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正文语种 chi
中图分类智能材料;
关键词
热壁外延; 大面积; 硅衬底; 碲镉薄膜; 结构; 表面形貌;

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