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ZnTe薄膜性能研究

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用真空共蒸发法在室温下制备了ZnTe: Cu多晶薄膜.用XRD表征薄膜结构,刚沉积未掺Cu和适度掺Cu的薄膜为立方结构,高度(111)择优,重掺Cu的为立方和六方混合相.室温时薄膜的形貌和光能隙取决于掺Cu浓度和退火温度,并通过透射光谱的测量计算出光能隙.

著录项

来源
《激光与红外》 |2006年第2期|135-137|共3页
作者
杨富; 南景宇; 蔡道林; 刘伟东; 孟旭东; 冯浩;
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作者单位

河北北方学院物理系,河北,张家口,075028;

河北北方学院物理系,河北,张家口,075028;

电子科技大学微电子与固体电子学院,四川,成都,610054;

河北北方学院物理系,河北,张家口,075028;

河北北方学院物理系,河北,张家口,075028;

河北北方学院物理系,河北,张家口,075028;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类材料结构及物理性质 ; 薄膜的性质 ;
关键词
ZnTe:Cu薄膜; 共蒸发法; 退火 ;

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