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朱建国;
四川大学材料科学系;
铁电薄膜; 半导体; 溅射法; 结晶;
机译:双离子束反应溅射沉积SiCN薄膜的结构和光致发光性能
机译:沉积时间对室温反应溅射在Cu_2O薄膜可见光光催化活性的影响
机译:高晶ZnSN2薄膜的化学环境和功能性能通过反应溅射在室温下沉积
机译:通过PBO气相反应溅射沉积PBTIO3超薄膜的低温制剂
机译:通过多离子束反应溅射沉积的铁电钛酸铅镧薄膜的组成/结构/性质关系。
机译:勘误表:De TeresaJ.M。等。室温和低温条件下聚焦电子/离子束诱导沉积的比较。微型机械201910799
机译:用于沉积氮化铌薄膜的离子束反应溅射工艺
机译:等离子体活化离子束反应溅射NbN薄膜
机译:化学气相沉积法制备PBTIO3薄膜的方法
机译:用磁控反应溅射沉积代替铬镀层制备高沉积速率的碳化钨薄膜的方法
机译:反应溅射沉积的方法和反应溅射沉积系统
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