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【2h】

The ion-beam reactive sputtering process for deposition of niobium nitride thin films

机译：用于沉积氮化铌薄膜的离子束反应溅射工艺

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by Daniel Jenner Lichtenwalner.

机译：由Daniel Jenner Lichtenwalner撰写。

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作者
Lichtenwalner Daniel Jenner;
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年度 1990
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