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汪继芳;
中国兵器工业第214研究所;
蚌埠233042;
光刻工艺; 稳定性; 表面加工技术; 工艺质量; 光刻胶选择;
机译:皮质类固醇的稳定性研究:HPLC和UPLC-MS / MS局部配方中丙酸丙酸酯丙酸盐,解索和氢化可的松的稳定性研究
机译:通过Zeta电位测量的稳定性研究配体交换的CdSe / ZnS-Y(Y = 3-巯基丙酸或巯基琥珀酸)的稳定性研究
机译:盐酸特比萘芬乳膏的加速稳定性研究,摇摆研究和光稳定性研究
机译:新型光刻工艺在70 nm及以上光刻工艺中的控制
机译:融合沉积建模和立体光刻工艺在护理现场生物测定平台制造中的应用。
机译:制备石墨烯生物传感器的清洁室的光刻工艺
机译:用于生物芯片和生物传感器的微型和纳米结构的可伸缩制造的光刻工艺
机译:用于制造亚半微米栅极长度mmIC芯片的组合电子束/光学光刻工艺步骤
机译:光刻工艺余量评估程序,光刻工艺余量评估装置以及光刻工艺余量评估方法
机译:光刻工艺利润率评估装置,光刻工艺利润率评估方法和光刻工艺利润率评估程序
机译:利用冷流传递函数的燃烧不稳定性研究系统和利用冷流传递函数的研究方法
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