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基于电射流打印的光刻工艺研究及实验分析

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第1章绪论

1.2光刻技术简介及存在问题

1.3应用于光刻工艺的电射流打印技术

1.3.1电射流打印技术概述

1.3.2电射流打印技术国外研究现状

1.3.3电射流打印技术国内研究现状

1.4研究目标及主要工作

第2章电射流打印技术基本原理

2.1.2流场分析

2.1.3电场分析

2.1.4电流体动力学方程

2.2几种影响射流直径的因素

2.3本章小结

第3章电射流打印稳定性仿真研究

3.2模型建立与网格生成

3.3物理场的设定

3.4.2打印高度对射流直径的影响

3.4.3入口流量对射流直径的影响

3.4.5液体粘度对射流直径的影响

3.5本章小结

第4章实验平台搭建及喷针实验

4.2光刻胶溶液性质测试

4.3实验台调试

4.4启动电压的验证

4.6加载电压与打印高度对电射流打印线宽的影响

4.6.2打印高度为420微米

4.6.3打印高度为480微米

4.6.4打印高度为540微米

4.6.5打印高度为600微米

4.6.6实验数据整理与分析

4.7喷针内径对电射流打印线宽的影响

4.8本章小结

第5章结论与展望

5.2展望

参考文献

作者简介及在学期间所取得的科研成果

致谢

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著录项

  • 作者

    李金来;

  • 作者单位

    吉林大学;

  • 授予单位 吉林大学;
  • 学科 微纳米加工与制造
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 曲兴田;
  • 年度 2020
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

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