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施秉旭;
德州职业技术学院;
机译:通过结合PECVD / PVD工艺制备的SiO_xC_y-Ag纳米复合薄膜制备的Ag纳米粒子嵌入层
机译:PECVD法制备有机硅等离子体中氩气流速对SiO:CH薄膜制备的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺研究无定形碳包覆的再生PET的阻隔性能和耐化学性
机译:用PECVD沉积的氮化硅膜在光学性质中的影响和蚀刻PECVD对未冷却微血管仪的影响
机译:用RBS,ERDA和CARS测定脉冲PECVD氮化硅薄膜中的氢。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过溅射Cu在氮化硅中通过溅射Cu的相结构,耐腐蚀性和抗微生物响应及氮化硅PECVD
机译:远程微波pECVD生长氮化硅的体积和表面钝化
机译:使用后PECVD沉积UV固化增加氮化硅膜拉伸应力的方法
机译:通过PECVD后UV固化提高氮化硅薄膜拉伸应力的方法。
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