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刘佰清; 刘国柱; 吴健伟; 洪根深; 郑若成;
中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏无锡214035;
栅氧化; 总剂量电离效应; 阈值电压漂移△Vtn;
机译:总剂量辐照对H栅SOI NMOS器件阈值电压的影响
机译:总剂量辐射下磷离子注入对部分耗尽SOI NMOS背栅效应的影响
机译:考虑浮体效应的40 nm PD SOI NMOS器件的栅隧穿漏电流行为
机译:NMOS器件中的总剂量效应
机译:具有高K电介质和金属栅电极的按比例缩放的NMOS器件的闪烁噪声
机译:全方位栅InAs纳米线金属氧化物半导体场效应晶体管中的高度栅可调Rashba自旋轨道相互作用
机译:静态和动态条件下半导体功率器件上总电离剂量效应的研究。静态和动态条件下电离辐射总剂量对半导体功率器件的影响研究
机译:持续评估双极线性器件的总剂量偏差依赖性和ELDRs效应
机译:具有栅绝缘层的不同厚度的金属氧化物半导体场效应晶体管器件的形成方法,该不同厚度的层可以改善低电压金属氧化物半导体场效应晶体管器件和高电压金属氧化物半导体器件的性能
机译:包括至少两个相邻NMOS器件的集成电路-具有隔离沟道区,该隔离沟道区形成在公共衬底上的器件之间,该隔离沟道区被配置为减小连续NMOS器件之间的寄生效应
机译:电离辐射检测-包括使用带有浮栅的MOSFET晶体管的剂量计,电离辐射通过露天或气体空间等影响栅表面。
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