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用体式显微镜研究SiC单晶中的微管缺陷

     

摘要

用拉曼光谱、X射线双晶衍射仪以及体式显微镜,对升华法生长的6H-SiC单晶品质、SiC单晶中的微管缺陷进行表征.通过对SiC单晶腐蚀前后的微管数目比较发现,微管尺寸和其所形成的腐蚀坑大小并不是呈线性关系,腐蚀前后用体式显微镜观察到的微管数目大致相等.从实验数据发现,微管的尺寸有最小值,这给SiC微管密度分布,提供了一种无损检测方法.

著录项

  • 来源
    《电子科技》|2009年第5期|75-77|共3页
  • 作者单位

    西安电子科技大学技术物理学院,陕西,西安,710071;

    中国电子科技集团公司第46研究所质量检验中心,天津,300192;

    中国电子科技集团公司第46研究所质量检验中心,天津,300192;

    西安电子科技大学技术物理学院,陕西,西安,710071;

    西安电子科技大学技术物理学院,陕西,西安,710071;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
  • 关键词

    KOH腐蚀; 微管; SiC; 计数;

  • 入库时间 2022-08-18 02:51:38

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