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李雯; 谭智敏; 薛昕; 刘理天;
清华大学微电子学研究所;
紫外线厚胶光刻技术; SU-8; AZ4620; 双面对准光刻机; 紫外线光刻工艺; 胶结构图形;
机译:使用JSR THB-151N负性UV光刻胶的先进晶圆级封装应用的厚光刻胶工艺
机译:JSR THB-430N负性紫外线光刻胶的高深宽比超厚微模板
机译:纳米颗粒粘附模型:在极端紫外线光刻光刻胶中去除颗粒污染物中的应用
机译:JSR THB-151N负性UV光刻胶用于开路传感封装应用的厚光刻胶工艺
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:用于生物应用中高纵横比微结构的低荧光厚光刻胶的开发
机译:用于mEms应用的具有不同厚光刻胶的电镀模具的实现
机译:用于交叉电容器结构制作的厚负光刻胶的优化。
机译:厚的化学放大正型光刻胶组合物,厚膜光刻胶层压板,制造方法的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的连接端子
机译:厚膜光刻胶层合板,厚膜光刻胶图案的制造方法以及连接端子的制造方法
机译:用于厚膜的化学放大负片型光刻胶成分,光刻胶底材以及使用该光刻胶的凸点形成方式
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