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王大海; 万春明; 徐秋霞;
长春理工大学;
中国科学院微电子研究所;
超深亚微米; CMOS器件; 自对准硅化物; 纳米器件; Ni自对准硅化物;
机译:使用用于MOSFET的预硅化物N / sub 2 // sup + /注入改进的NiSi自对准硅化物工艺
机译:应力诱发的p / sup + // n自对准硅化物结泄漏故障的研究以及0.15- / spl mu / m以下CMOS技术的优化工艺条件
机译:在4H-SiC TSI-VJFET中形成栅极和源极接触的自对准硅化物工艺
机译:Ni硅化物和Ni锗硅化物自对准工艺65nm及超出CMOS技术的2步快速热退火
机译:用于闪光灯退火多晶硅TFT的自对准CMOS工艺的开发
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:用自对准硅化物工艺形成TiSi2 / n + p浅结的硅化物掺杂技术
机译:采用自对准硅化物技术制作的金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:自对准硅化物工艺以及使用该自对准硅化物工艺制造半导体器件的方法
机译:金属自对准硅化物-CMP-金属自对准硅化物半导体工艺
机译:集成了用于MOS逻辑器件的自对准硅化物工艺和用于MOS存储器件的自对准接触工艺
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