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王鹏飞; 丁士进; 张卫; 张剑云; 王季陶; 李伟;
复旦大学电子工程系;
台湾集成电路制造公司;
红外光谱; 介电常数; 含氟氧化硅薄膜;
机译:硅烷化和铯掺杂对介孔二氧化硅薄膜的硅氧烷网络改性的红外光谱分析
机译:独特的“笼-笼”形疏水性含氟聚合物薄膜,其衍生自具有低介电常数的新型双层结构POSS
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备低介电常数含硅氟碳薄膜
机译:新型含环氧低介电常数氟的合成
机译:通过等离子体增强的含硅的低介电常数碳氟化合物薄膜增强了化学气相沉积。
机译:低介电常数启用聚(酰亚胺硅氧烷)薄膜定义明确的二硅氧烷连接的烷基二胺
机译:低介电常数和低介电损耗的氟化聚酰亚胺-二氧化硅薄膜
机译:低介电常数甲基倍半硅氧烷薄膜中的辐射效应
机译:沉积低介电常数的方法。利用四氟化硅/氧气化学作用的硅氧氟薄膜
机译:修复受损的低介电常数二氧化硅基薄膜和由其还原的低介电常数二氧化硅基薄膜的方法
机译:使用碳化硅附着力促进剂层增强氮化硅与低介电常数的含氟非晶碳的附着力的方法
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