Louisiana State University and Agricultural & Mechanical College.;
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备低介电常数含硅氟碳薄膜
机译:用于低介电常数薄膜的等离子增强化学气相沉积氢化非晶碳化硅的后处理
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积法沉积低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜性能的影响
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积沉积的低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜的影响
机译:低介电常数有机硅基薄膜的化学气相沉积。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积和溶剂法合成碳氟化合物多孔膜的孔隙率和介电常数