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刻蚀设备; 通孔; 硅; 半导体设备; 微电子器件; 微机电系统; 结构紧凑; 电光器件;
机译:对硅通孔硅刻蚀(通过硅过孔)的过程中引起侧壁表面缺陷的机理的研究
机译:通过无缺口硅刻蚀和第一金属层的湿法清洗形成的硅通孔阵列芯片的制造和堆叠
机译:金属辅助化学刻蚀形成晶圆级硅中介层的硅通孔
机译:使用微镜显示设备DMD〜(TM)通过数字条纹投影对人体皮肤(PRIMOS)进行相移快速体内测量
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:硅通孔三维轮廓的混合无损测量方法可实现智能设备
机译:硅中通孔形成的反应离子刻蚀参数的优化
机译:在硅中激光钻孔垂直通孔
机译:有机硅玻璃中通孔刻蚀的方法
机译:具有多晶硅正常入射的TM:II-VI TM:II-VI中红外克尔透镜模式锁定激光器TM:II-VI材料和控制多晶硅TM:II-VI Kerr透镜模式锁定激光器的方法
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