原子尺度的亚稳态金刚石膜的生长、形核和异质外延的机理研究

摘要

@@ 金刚石由于它在力学、热学、光学及电子学方面极其优异的性能和最近它在低压合成方面的成功,近年来它的研究和开发吸引了很多人,形成了一股热潮.但是也遇到了困难,其中最突出的是,对金刚石膜的生长和形核机理还不很清楚,使得人们不能很好地控制膜的生长和质量,来满足实际应用中的各种要求.其次,大面积的异质外延金刚石单晶膜还未能获得,不能实现金刚石膜在高温、高速、高功率和高集成度电子器件上的应用.