机译:外延金刚石膜的基底基板,外延金刚石膜的基底基板的制造方法,由该外延金刚石膜的基底基板制造的外延金刚石膜,以及外延金刚石膜的制造方法
公开/公告号US2009176114A1
专利类型
公开/公告日2009-07-09
原文格式PDF
申请/专利权人 ATSUHITO SAWABE;SHINTARO MAEDA;
申请/专利号US20070225570
申请日2007-02-05
分类号B32B15/04;C30B23/02;C23C14/34;
国家 US
入库时间 2022-08-21 19:33:19