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甲烷在Ni表面及La薄膜上激活解离化学吸附

         

摘要

利用分子束技术改变甲烷的平动能E_k来研究E_k及其法向分量E_n对甲烷在Ni表面及La薄膜上激活解离吸附的影响。对CH_4/Ni及CH_4/La系统,当甲烷的平动能E_k分别低于58.5kJ·mol^(-1)及52.3kJ·mol^(-1)时,没观察到甲烷的解离吸附。当甲烷的平动能超过此阈值时,即对CH_4/Ni系统,当Ek=58.5增至63.8kJ·mol^(-1)时,初始沾着几率s_0由0至0.54线性增加;对CH_4/La系统,当E_k=52.3增至63.8kJ·mol^(-1)时,S_0由0至0.49线性增加。这些结果表明,两个系统的化学吸附是不经过前趋态的直接化学吸附。最后求出CH_4/Ni,CH_4/La系统的表观活化能分别为46.8kJ·mol^(-1)和38.1kJ·mol^(-1)。

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