法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-22
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C18/32 申请公布日:20161116 申请日:20160818
发明专利申请公布后的驳回
2016-12-14
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C18/32 申请日:20160818
实质审查的生效
2016-11-16
公开
公开
机译: 一种基于辉光放电等离子体化学气相沉积技术,利用CR和NI的金属有机前驱体生产CRN和NI的NI涂层和复合涂层
机译: 形成Ni和Ni合金膜的硅晶片,在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在形成Ni和Ni合金膜的硅晶片表面上进行表面粗加工的液体,以及在表面上进行表面粗加工的方法
机译: 在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在形成Ni时Si晶片的表面的表面粗糙化处理液和镍合金膜,转化处理方法