法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-09
授权
授权
2016-09-28
实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/56 申请日:20160215
实质审查的生效
2016-05-04
公开
公开
机译: Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
机译: Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
机译: 包含铜的层,包含铟的银银合金层及其氧化物层的层结构,包含铜的层,包含铜,银和至少一种元素的硒,银和至少一种金属的合金层Ni含铁基质及其制备方法