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罗长维; 仇猛淋; 王广甫; 王庭顺; 赵国强; 华青松;
北京师范大学核科学与技术学院 射线束教育部重点实验室 北京 100875;
北京市辐射中心 北京 100875;
离子激发发光; 退火; ZnO;
机译:离子注入引起的ZnO缺陷的退火过程:离子物种的化学作用
机译:退火对离子注入制备的Ag掺杂ZnO纳米线结构和光致发光性能的影响
机译:利用光致发光和正电子an没研究离子注入硅中的缺陷
机译:生长和热退火的块状ZnO晶体的光致发光研究。
机译:单晶和纳米晶金刚石中的b发光中心—离子注入注量和热退火的影响
机译:ZnO的光致发光:放射性离子注入和过渡金属缺陷
机译:ZnO中离子注入层的发光和霍尔效应。
机译:用于制造高压部件的掺杂半导体包括通过非掺杂离子的离子注入,氢处理然后退火来形成缺陷。
机译:利用离子注入区对应离子散布区域的离子注入面膜控制因晶体管中的离子散射而变化的阈值电压的方法
机译:具有高三极管激发能和离子注入和迁移率的有机光电子器件,包含相同的有机发光二极管和包含有机发光二极管的显示装置的化合物
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