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磁控溅射法制备ITO薄膜及其光电性能研究

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摘要

1.引言

1.1 应用于LED中的ITO薄膜的简介

1.2 国内外对ITO透明导电薄膜的研究现状

1.2.1 国外研究现状

1.2.2 国内研究现状

1.3 ITO透明导电薄膜的应用

1.3.1 ITO薄膜在显示器方面的应用

1.3.2 ITO薄膜在太阳能电池领域中的应用

1.3.3 ITO薄膜在热辐射反射镜中的应用

1.3.4 ITO薄膜在微波屏蔽和辐射防护中的应用

1.3.5 ITO薄膜在交通工具的挡风玻璃中的应用

1.4 本论文主要研究内容

1.5 本章小结

2 ITO薄膜的理论基础及制备方法介绍

2.1 ITO透明导电薄膜的理论基础

2.1.1 ITO透明导电薄膜的微观结构

2.1.2 ITO透明导电薄膜的能带

2.1.3 ITO透明导电薄膜的电学性能

2.1.4 ITO透明导电薄膜的光学性能

2.2 ITO透明导电薄膜的制备方法

2.2.1 化学制备方法

2.2.2 物理制备方法

2.3 本章小结

3 磁控溅射法制备ITO薄膜

3.1 实验装置及原理

3.1.1 实验装置

3.1.2 制备原理

3.2 实验方法

3.3 工艺操作流程

3.4 本章小结

4 ITO薄膜的性能测试与实验结果讨论

4.1 ITO薄膜的性能测试

4.1.1 ITO薄膜方阻的测试

4.1.2 ITO薄膜透光率的测试

4.1.3 ITO薄膜厚度的测试

4.2 实验结果讨论

4.2.1 O2流量对ITO薄膜性能的影响

4.2.2 溅射功率对ITO薄膜性能的影响

4.2.3 溅射气压对ITO薄膜性能的影响

4.2.4 沉积温度对ITO薄膜方阻的影响

4.3 本章小结

5 结论与展望

参考文献

作者简历

学位论文数据集

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摘要

半导体发光二极管(Light Emitting Diode),简称LED,它是将电能转化为光能的电致发光器件。LED光源具有体积小、功率低、能更好地反映被照射物体的真实颜色,并且使用寿命长、亮度高且低热量、坚固耐用、安全环保等特点,所以LED在照明领域的应用前景非常广阔。随着人们对LED了解的越来越多,其应用也日渐广泛,例如在指示灯、显示屏背光源等应用领域。制备LED器件时,P-GaN作为出光面,在其上方沉积金属层作为导电电极。由于半导体材料的载流子浓度较低,导电性差,电流不能很好的扩展,限制了出光效率。因此,为了提高出光效率,其出光面和电极之间需要一种既要有良好的导电性,又有很好的透光性的薄膜材料,有源区产生的光才可以均匀的透出来。氧化铟锡(Indium Tin Oxide),简称ITO,是一种重掺杂、高简并的n型半导体,它同时具有较高的电导率和可见光区透过率。ITO薄膜的其它优点也非常突出,化学稳定性好,热稳定性高,同时具有对衬底的良好的附着性,并且便于图形加工。由于ITO薄膜的优异特性,其在半导体光电器件中得到了非常广泛的应用,如在显示器和太阳能电池中的应用,在LED器件中更是作为电流扩展层成为了不可或缺的组成部分。根据制备原理的不同,主要分为化学法和物理法两大类。其中,化学方法主要包括溶胶-凝胶法、喷雾热解法、均相沉淀法和化学气相沉积等;物理方法主要包括蒸发沉积、激光脉冲沉积(PLD)和磁控溅射法等。
  本实验采用磁控溅射法进行薄膜的制备,靶材使用的是(90wt%In2O3+10wt%SnO2)的ITO陶瓷靶。利用四探针仪进行了薄膜方块电阻测试,利用紫外-可见分光光度计进行透光率测试,利用台阶仪进行了膜厚测试。实验通过改变O2流量、溅射功率、溅射压强和沉积温度研究了对ITO薄膜的方块电阻及透过率的影响,并对其影响的原因进行了分析和解释。实验中得到了一组光电性能较为理想的ITO薄膜,在O2流量为0.2sccm,Ar流量为80sccm,溅射功率为260W,沉积气压为2.0mTorr,沉积温度35℃,薄膜厚度120nm时,方块电阻为29.2Ω/sq,可见光(波长455nm)透过率为99.3%。

著录项

  • 作者

    高鹏飞;

  • 作者单位

    北京交通大学;

  • 授予单位 北京交通大学;
  • 学科 光学工程
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 李云白;
  • 年度 2014
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 中文
  • 中图分类 TN304.055;TN312.8;
  • 关键词

    发光二极管; ITO薄膜; 磁控溅射法; 光电性能;

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