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杨丰帆; 方亮; 孙建生; 徐勤涛; 吴苏友; 张淑芳; 董建新;
中国兵器工业集团第五三研究所;
重庆大学应用物理系;
直流反应磁控溅射法; CdIn2O4薄膜; 光电性能; 最佳条件;
机译:直流反应磁控溅射制备Cdin_2o_4薄膜的结构和电性能
机译:直流反应磁控溅射CdTe薄膜的光电性能研究
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构ZnTe薄膜的物理性能研究
机译:直流反应磁控溅射CDTE薄膜光电性能研究
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:直流反应磁控溅射制备氧化锆薄膜的性能研究
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
机译:在真空状态下的光学薄膜内部的膜状零反应性直流磁控溅射装置用于高级真空
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