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2.1.1 阻断特性
2.3.1 禁带宽度模型
5.2 展望
白瑞杰;
西安电子科技大学;
机译:深亚微米槽栅NMOSFET的结构与热载流子效应抗性的关系研究
机译:SIPOS FP结构的4H-SiC功率SBD的设计,仿真与制作
机译:基于4H-SiC的双栅沟槽LDMOSFET的仿真研究
机译:快速热CVD高k栅极电介质和CVD金属栅电极的技术开发和研究,用于未来的ULSI MOSFET器件集成:氧化锆和氧化ha。
机译:低关断损耗的4H-SiC沟槽绝缘栅双极晶体管的仿真研究
机译:通过3D TCAD仿真研究了基于连接的单栅SOI MOSFET的连接型单栅SOI MOSFET的SEU敏感性
机译:4H-sIC垂直D-mosfet的脉冲功率开关及器件表征
机译:具有HV输入级的集成电路-在具有绝缘栅电极的衬底上具有开关MOSFET,绝缘栅电极的栅氧化层的厚度与场氧化层的厚度相同
机译:用于MOSFET的半导体结构,具有与n型双栅晶体管的背栅的一部分和p型双栅晶体管的背栅的一部分相接触的单阱,其中栅极被相同的掺杂剂掺杂。
机译:具有沟槽式接触结构的屏蔽栅MOSFET-肖特基整流二极管集成电路
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