声明
第1章绪论
1.1 引言
1.2 高分辨功能性结构的应用需求
1.3 高分辨功能性结构的制备方法
1.4 功能性抗蚀剂简介
1.5 本论文的研究动机及主要工作
第2章 环烷酸铜抗蚀剂制备导电结构
2.1 研究背景
2.2 研究方法
2.3 石墨烯包覆铜电极制备概念展示
2.4 石墨烯包覆铜结构表征
2.5 石墨烯包覆铜结构在石墨烯器件中应用
2.6 本章小结
3.1 研究背景
3.2 研究方法
3.4 HAuCl4/PVP抗蚀剂制备金颗粒阵列的可控性研究
3.5金结构在等离激元光学中的应用
3.6 本章小结
4.1 研究背景
4.2 研究方法
4.3 PMMA负性抗蚀剂制备的结构特征及应用
4.4 本章小结
5.1 研究背景
5.2 研究方法
5.3 短沟道器件的结构设计
5.4 本章小结
总结与展望
1 本论文的工作总结
2 未来工作的展望
参考文献
致谢
附录一 博士期间的研究成果
博士期间发表的论文:
博士期间获奖情况：
