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公开/公告号CN107111228B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-16
原文格式PDF
申请/专利权人 曼彻斯特大学;
申请/专利号CN201580054449.9
发明设计人 斯科特·刘易斯;理查德·温培尼;斯蒂芬·耶茨;
申请日2015-07-30
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11262 北京安信方达知识产权代理有限公司;
代理人张瑞;郑霞
地址 英国曼彻斯特
入库时间 2022-08-23 11:35:41
机译: 能够生产适用于极紫外光刻或电子束光刻的抗蚀剂组合物的聚合物,以及包括其的抗蚀剂组合物
机译: 极紫外光和电子束曝光抗蚀剂组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法
机译: 极紫外光和电子束曝光的抗蚀剂组合物,以及使用该组合物的抗蚀剂图案的方法
机译:用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)抗蚀剂的组合照片和电子束光刻
机译:P3HT / PMMA聚合物共混物用于光致电子束抗蚀剂的纳米级相分离和光学性质的操纵
机译:通过高能电子束覆盖物在低碳钢上的高能电子束覆盖物获得的涂层的结构,相组合物和硬度
机译:电子束抗蚀剂除气,用于研究抗蚀剂灵敏度与电子束光学污染之间的相关性
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:海藻糖甘油聚合物抗蚀剂允许通过电子束光刻直接写蛋白质图案
机译:直接写入过渡金属氟化物抗蚀剂电子束图案产生的磁性纳米结构