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机译:用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)抗蚀剂的组合照片和电子束光刻
Ohio Univ Sch Elect Engn &
Comp Sci Russ Coll Engn &
Technol Athens OH 45701 USA;
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photolithography; electron beam lithography; polymethyl methacrylate; PMMA; deep UV exposure;
机译:用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)抗蚀剂的组合照片和电子束光刻
机译:纳米压印光刻胶中聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)抗蚀剂附着和变形的分子模拟研究
机译:新型电子束光刻抗蚀剂SML的表征及其与PMMA和ZEP抗蚀剂的比较
机译:聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的光化学改性可产生器件制造的形貌和折射率对比
机译:体内多光子显微镜甲基丙烯酸甲酯(PMMA)颅窗的设计与表征
机译:Cu离子植入对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)结构电子光学和介电性能的影响
机译:剂量对PMMA电子抗蚀剂的影响,以通过电子束光刻发展高纵横比和可再现的亚微米结构