机译:用于形成电子束或极端紫外光光刻的抗蚀剂底层膜的组合物,抵抗电子束或极端紫外光光刻的底层膜,以及用于制造半导体衬底的方法
公开/公告号WO2021193030A1
专利类型
公开/公告日2021-09-30
原文格式PDF
申请/专利权人 JSR CORPORATION;
申请/专利号WO2021JP09349
申请日2021-03-09
分类号C08G77/26;G03F7/039;G03F7/11;G03F7/20;H01L21/027;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 21:24:47