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王国荃; 罗腾蛟; 王琴美; 吴月莉;
无;
机译:电子能量为40 keV的新型CSAR62正性电子束抗蚀剂的研究
机译:使用化学放大正性抗蚀剂和PEDOT:PSS作为保护涂层的高度耐用的电子束光刻剥离工艺
机译:使用矢量扫描电子束工具优化用于0.25um光刻的正性化学放大抗蚀剂的工艺
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:正性抗蚀剂组合物,用于正性抗蚀剂组合物的树脂,用于树脂合成的化合物和使用该正性抗蚀剂组合物的图案形成方法
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