机译:电子热能对化学放大电子束抗蚀剂敏化过程的理论研究抵抗电子束罩写入中的加热效果
Osaka Univ Inst Sci & Ind Res Ibaraki Osaka 5670047 Japan;
NuFlare Technol Inc Yokohama Kanagawa 2358522 Japan;
机译:使用化学放大的抗蚀剂工艺的电子束光刻技术制造7纳米四分之一间距的线和间隔图案的理论研究:V.最佳束大小
机译:光分解猝灭剂在化学放大电子束抗蚀剂工艺中制造7 nm四分之一间距的线和空间图案中的效应的理论研究
机译:使用电子束光刻技术和化学放大的抗蚀剂工艺制造7纳米四分之一间距的线和空间图案的理论研究:II。随机效应
机译:使用50keV电子束对化学放大的抗蚀剂工艺和先进的掩模光刻技术中的关键参数进行CD接合
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:低能电子在聚焦电子束诱导沉积中的作用:代表性前体的四个案例研究
机译:高分辨率化学放大电子束在各种光束能量下的性能
机译:新西兰科学院西伯利亚科学院核物理研究所Vapp-Nap群电子冷却的电子冷却研究a部分理论和实验研究回顾B部分重粒子冷却电子束装置实验第C部分参考书目