Northeastern University,Shenyang 110004,China;
Northeastern University,Shenyang 110004,China;
Northeastern University,Shenyang 110004,China;
Northern Heavy Industries Group Co.,LTD,Shenyang 110141;
Northern Heavy Industries Group Co.,LTD,Shenyang 110141;
magnetron sputtering; thickness uniformity; eccentricity; velocity ratio; target-substrate distance;
机译:磷酸盐生物胶薄膜:通过简单改变磁控溅射气体压力来定制的跨面积均匀性,结构和生物学性能
机译:高功率脉冲磁控溅射沉积在半球工件的内表面上的锡膜的均匀性
机译:低温磁控溅射沉积均匀高质量Al掺杂ZnO薄膜的结构
机译:磁控溅射膜均匀性,用多功能垫
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:热退火对通过射频磁控溅射获得的锆掺杂MgXZN1-XO膜性能的影响
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射反应溅射ZrH2薄膜