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温培刚; 颜悦; 张官理; 望咏林;
北京航空材料研究院,北京,100095;
磁控溅射; 膜厚均匀性; 膜厚测量;
机译:工艺条件对直流磁控溅射沉积二氧化钛超薄膜理化特性的影响
机译:旋转旋转磁控溅射沉积薄膜的厚度均匀性
机译:磁控溅射沉积MnO_2超薄膜:工艺条件,结构性能与透明超级电容器性能之间的关系
机译:挡板对改善磁控溅射系统沉积薄膜厚度均匀性的影响
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:磁控溅射沉积MnO2超薄膜:工艺条件,结构性质和透明超级电容器性能之间的关系
机译:脉冲激光沉积法制备薄膜厚度均匀性的研究
机译:氮化钛薄膜的沉积具有改善的薄膜厚度均匀性
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
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