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辛荣生; 林钰;
郑州大学材料科学与工程学院;
河南教育学院化学系;
磁控溅射; ITO膜; 电阻率; 透光率;
机译:工艺条件对脉冲直流磁控溅射制备ZnO:Mo薄膜光电特性的影响
机译:工艺条件对直流磁控溅射沉积二氧化钛超薄膜理化特性的影响
机译:氢处理对反应气定时直流磁控溅射沉积非晶ITO薄膜微结构和光电性能的作用
机译:直流磁控溅射USFNG各种烧结FNDKJM-氧化锡靶材沉积的ITO薄膜的特性
机译:沉积条件对氢化非晶硅和硅锗合金(太阳能电池,薄膜晶体管)的结构,光电和器件性能的影响。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:RF叠加直流磁控溅射沉积超薄ITO:Ce膜,膜的制备方法和包括其的触摸屏
机译:ito和iton薄膜的沉积工艺,ito和iton薄膜及其用途
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