United Microelectronics Corporation, Advanced Technology Development, Advanced Modules Division, Tainan, Taiwan, R.O.C.;
机译:具有Al2O3 / HFO2的栅极堆叠电介质的顶门和底门多层MOS2晶体管的比较研究
机译:具有高κ栅介电和三材料栅堆叠的纳米级圆柱栅金属氧化物半导体场效应晶体管的阈值分析模型
机译:具有各种高k栅极电介质的非晶InGaZnO薄膜晶体管的器件性能和可靠性的比较研究
机译:Hafina栅极电介质最佳ALD氧化锆的MOS晶体管栅极堆叠材料特性和可靠性表征的比较研究
机译:ALD二氧化锆栅极电介质的材料和电性能。
机译:电子束沉积栅极电介质对a-IGZO薄膜晶体管的沟道宽度相关性能和可靠性的比较研究
机译:溶液沉积大气压形成的具有铟镓锌氧化物通道和氧化铝栅介质叠层的薄膜晶体管的电性能